Spin Coater

Beschrijving

Een desktopsysteem voor het maken van nauwkeurige en uniforme defectvrije dunne films op substraten en wafers. Het systeem is voorzien van een nauwkeurige dispenser en een spinner.

Technische specificaties

• Rotatiesnelheid : Tot 12.000 tpm
• Substraatgrootte : Tot 150 mm (6″) voor de ronde wafers en tot 127 mm x 127 mm (5″x5″) vierkant substraat, stukken van de wafer van onregelmatige vorm.